Nitrur tas-silikon - huwa materjal taċ-ċeramika li huwa importanti għall-ħolqien ta 'strutturi durabbli. Hija sustanza iebsa ħafna, lubrikanti naturali magħmula minn atomi rranġati bħal kristalli. Ma sadidx f'temperaturi għoljin u jista 'wkoll jiflaħ temperaturi sħan u kesħin estremi. Jista 'jissaħħan fl-arja għal temperaturi ta' aktar minn 1000 grad, u mhux se jinkiser anki jekk jerġa 'jkessaħ u jissaħħan malajr. Dawn il-karatteristiċi jagħmluha utli biex isiru partijiet tal-magni bħal berings, xfafar tat-turbini, ċrieki tas-siġill mekkaniċi u forom. Jintuża wkoll biex jagħmel il-wiċċ tat-tisħin ta 'xi partijiet tal-magna minħabba li huwa konduttur fqir tas-sħana. Dan itejjeb il-prestazzjoni tal-magni diesel, jiffranka l-fjuwil u jżid l-effiċjenza termali.
Materjali taċ-ċeramika tan-nitrur tas-silikon huma wkoll stabbli ħafna f'temperaturi għoljin, ma jiddegradawx meta jkunu esposti għall-ossiġnu, u jistgħu jsiru kbar ħafna u densi. In-nitrur tas-silikon huwa kompost kovalenti marbut b'mod qawwi u jista 'jifforma film protettiv ta' ossidu fl-arja, għalhekk huwa wkoll kimikament stabbli ħafna u ma jiddegradax f'temperaturi taħt l-1200 grad. Il-film protettiv iffurmat f'1200 ~ 1600 grad jista 'jipprevjeni aktar ossidazzjoni. Ma jirreaġixxix ma 'ħafna metalli u ligi imdewweb bħal aluminju, ċomb, landa, fidda, ram, nikil, eċċ., iżda jista' jiġi msaddad minn likwidi imdewweb bħal manjeżju, nikil-liga tal-kromju, azzar li ma jissaddadx, eċċ.
Materjali taċ-ċeramika tan-nitrur tas-silikon jistgħu jintużaw f'komponenti ta 'inġinerija b'temperatura għolja, materjali refrattorji fl-industrija metallurġika, komponenti reżistenti għall-korrużjoni u elementi tas-siġillar fl-industrija kimika, u skieken u għodod tal-qtugħ fl-industrija tal-manifattura.
Peress li n-nitrur tas-silikon jista 'jifforma rabta qawwija ma' karbur tas-silikon, alumina, dijossidu tat-torju, nitrur tal-boron, eċċ., Jista 'jintuża bħala materjal li jgħaqqad u modifikat f'diversi proporzjonijiet.
Ladarba l-film tan-nitrur tas-silikon jiġi depożitat minn PECVD, jista 'jintuża bħala film kontra r-rifless biex jitnaqqas ir-rifless tad-dawl. Matul il-proċess ta 'depożizzjoni tal-film tan-nitrur tas-silikon, l-atomi tal-idroġenu jidħlu fil-film tan-nitrur tas-silikon u fuq il-wejfer tas-silikon, li għandu rwol fil-passivazzjoni tad-difetti. Il-proporzjon tan-numri atomiċi tan-nitrur tas-silikon u s-silikon hawnhekk mhuwiex strettament 4:3, iżda jvarja f'ċerta firxa skont kundizzjonijiet ta 'proċess differenti, u proporzjonijiet differenti jikkorrispondu għal proprjetajiet fiżiċi differenti tal-film.
manifatturi tan-nitrur tas-silikon janalizzaw l-għarfien tal-prodott
Feb 05, 2025
Ħalli messaġġ

